ハイポリとローポリの製作からLOD設定までの流れ

twitter でそのような話になったのでまとめてみます。以下の項目について書いています。

• ハイポリのテクスチャーを、UV Map が全く異なるローポリに移植する
• SecondLife 内で LOD 切替に対応したオブジェクトを制作する

今回は、下の図のような形をつくりました。5枚の花びらのような形を Screw Modifier でねじる変形をさせています。

ただの筒です。サイズはハイポリよりやや小さめ（重ねて配置するとハイポリが少しはみ出す程度）がいいみたいです。同じレイヤーに置くと見づらいしベイクの邪魔になるので、私は別レイヤーに置いています。

マテリアルを設定してベイクします。今回はロープのようなものを想定してマテリアルをつけました。

でも、焼き上がりはだいたいパッとしないのです。そこで、別途 Ambient Occlusion¹⁾ だけ焼いたものを GIMP で重ねて立体感を強調するようにしています。

AO を重ねたらずいぶん重厚な表現になりました。さて、焼き上がったテクスチャーを blender の中で実際に貼り付けます。

ローポリのベイクの準備として、ローポリを Unwrap し、新規テクスチャーをつくっておきます。

ココからがいちばん難しいところでしょうが、何度かやれば体が覚えると思います。がんばってください。手順は以下の通りです。

1. Object Mode でハイポリを選択する
2. Shift を押しながらローポリのあるレイヤーを選択する
   （こうすると2枚のレイヤーが同時に表示されます）
3. Shift を押しながらローポリを選択する
4. Edit Mode に入り
5. Bake Mode を「Texture」にし、Selected to Active にチエックを入れる
6. Bake する

無事に焼き上がったら、ローポリにも焼けたテクスチャーを貼り付けます。

焼けたテクスチャーのところどころに空白ができてしまうことがありますが、そのときは、ベイクのところの「Bias」の数値を上げながら何度かベイクして、良い結果が出るまで粘りましょう。

ハイポリを選択し、 Edit Mode で面を追加します。この面には「ローポリのマテリアル」を割り当てます。この面は SecondLife 内で実際に見えてはいけないダミーの面なので、見えない場所に縮小して配置します。S → 0 で完全に面積をゼロにしても構いませんが、 Remove Doubles は適用しないようにしてください。

SecondLife に持ち込んだ後でテクスチャーを貼る際には、実際にこの面が存在していた方が作業がしやすいと思います。そのため、私はゼロにはせず、小さな面として残しておくことが多いです。

ここまで済んだらハイポリは完成です。Collada 形式で書き出しておきましょう。

ハイポリのときと同様に、ローポリでもダミー面をつくっておきます。

これでローポリも完成です。同じく Collada で書き出します。

今回は、以下のような LOD 設定でアップロードしてみました。

• High : 製作したハイポリ
• Med : 製作したローポリ
• Low : 製作したローポリ
• Lowest : 0 を指定

うまくいけば、動画のように切り替わるはずです。

ハイポリとローポリの UV Map に互換性があり、1枚のテクスチャーを共有する場合はダミーの面は必要ありません。今回のように、両者の UV Map に共通点がなく、異なるテクスチャーを切り替える必要がある場合、私はダミーの面を介することで実現させています。

ダミーの面をつくることで、ハイポリとローポリは

• 存在するマテリアルの種類が完全に一致
• マテリアル数が等しい

という状況が生まれます。これが、ダミーの面をつくる理由です。実際、この手順を踏まずにアップロードを試みるとエラーが出てアップロード不可になります。

ただ、別のアプローチがあるのではないか？　と、疑問を持っていることも確かです。たとえば、2枚のテクスチャーを別の UV Map を使って１枚にまとめてしまう…とか。これだと、テクスチャーの解像度を犠牲にすることになりますが、ダミーの面がなくてもいけそうです。

そういうわけで、「ココに書いた方法が正しい！」という主張をしているわけではありませんので、ご理解の程、よろしくお願い致します。また、他にもこういう方法があるよ！という記事が公開されないかなぁと、ほんのり期待をしつつｗ